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高效过滤器在半导体制造车间空气质量控制中的应用

高效过滤器在半导体制造车间空气质量控制中的应用 一、引言 随着半导体技术的不断进步,芯片制造工艺逐渐向纳米级发展。在这一过程中,空气中的微粒和化学污染物对产品质量的影响日益显著。因此,确保...

高效过滤器在半导体制造车间空气质量控制中的应用

一、引言

随着半导体技术的不断进步,芯片制造工艺逐渐向纳米级发展。在这一过程中,空气中的微粒和化学污染物对产品质量的影响日益显著。因此,确保洁净室(Cleanroom)内空气质量的高标准成为半导体制造中不可或缺的一环。高效空气过滤器(High-Efficiency Particulate Air Filter, HEPA)和超高效空气过滤器(Ultra Low Penetration Air Filter, ULPA)作为空气净化系统的核心组件,在半导体制造车间中发挥着至关重要的作用。

本文将从高效过滤器的基本原理、分类与性能参数、在半导体制造中的具体应用、国内外研究进展、选型建议以及未来发展趋势等方面进行详细探讨,力求为读者提供全面而系统的参考信息。


二、高效过滤器的基本原理与分类

2.1 基本原理

高效空气过滤器主要通过物理拦截、惯性碰撞、扩散效应和静电吸附等机制去除空气中的颗粒物。其核心材料通常为玻璃纤维或合成纤维,具有极高的过滤效率,尤其适用于0.3微米及以上粒径颗粒的捕集。

HEPA过滤器的定义标准为:对直径为0.3微米的颗粒物过滤效率不低于99.97%;ULPA过滤器则更为严格,对0.12微米颗粒的过滤效率应达到99.999%以上。

2.2 分类与性能参数

根据国际标准ISO 29463和美国标准IEST-RP-CC001,高效过滤器可分为以下几类:

类别 名称 过滤效率(典型值) 粒径范围(μm) 应用场景
E10 Pre-HEPA ≥85% >1.0 初效过滤,延长主过滤寿命
E11 Pre-HEPA ≥95% >1.0 同上
E12 HEPA ≥99.5% >0.3 半导体前段制程
H13 HEPA ≥99.95% >0.3 洁净度要求较高的区域
H14 HEPA ≥99.995% >0.3 超高纯度环境
U15 ULPA ≥99.999% >0.12 极端洁净要求如EUV光刻
U16 ULPA ≥99.9995% >0.12 同上
U17 ULPA ≥99.99995% >0.12 特殊实验室或设备内部

:表中数据依据ISO 29463:2011标准整理。


三、高效过滤器在半导体制造车间的应用

3.1 半导体制造对空气质量的严格要求

在先进制程中,例如7nm及以下节点的晶圆制造,空气中哪怕存在极微量的颗粒污染物(如金属离子、有机挥发物、尘埃),都可能导致电路短路、层间缺陷甚至产品报废。为此,半导体工厂普遍采用ISO Class 1~Class 4级别的洁净室标准,即每立方米空气中≥0.1μm的颗粒数不超过10个(Class 1)至10,000个(Class 4)。

3.2 高效过滤器在洁净系统中的位置与作用

在一个典型的半导体洁净空调系统中,空气经过多级过滤处理后进入洁净室。流程如下:

  1. 初效过滤器:用于拦截大颗粒灰尘,保护后续设备;
  2. 中效过滤器:进一步去除细小颗粒;
  3. 高效/超高效过滤器(HEPA/ULPA):实现终的高精度净化;
  4. 化学过滤器:去除气态污染物如氨、硫化氢等;
  5. 风机系统:维持正压并循环空气。

在关键工艺区域(如光刻、蚀刻、沉积等),HEPA/ULPA过滤器常被布置于天花板送风口处,以保证垂直单向流(Vertical Laminar Flow),从而大程度减少颗粒沉降。

3.3 典型应用场景举例

(1)光刻区

光刻是决定芯片分辨率的关键步骤,使用的是深紫外(DUV)或极紫外(EUV)光源。该区域对洁净度要求极高,通常采用ULPA过滤器,确保空气中0.1μm以下颗粒的数量极低。

(2)晶圆传送与存储区

晶圆在不同设备之间传送时需保持无尘状态,该区域采用HEPA过滤器配合风淋室(Air Shower)和FFU(Fan Filter Unit)系统,保障晶圆表面不受污染。

(3)化学品供应系统

部分工艺需要引入高纯度气体或液体化学品,其输送路径中也安装HEPA过滤器以防止杂质混入。


四、高效过滤器的技术参数与选型指南

4.1 主要性能指标

参数名称 描述 单位 测量标准
过滤效率 对特定粒径颗粒的捕捉能力 % ISO 29463
初始阻力 新过滤器的空气阻力 Pa IEST-RP-CC001
容尘量 可容纳的灰尘总量 g/m² EN 779
使用寿命 在额定风量下的有效运行时间 小时或年 制造商规格
泄漏率 是否存在局部泄漏 % 扫描法检测
材质 滤材类型 玻璃纤维、PTFE等
工作温度/湿度 适用环境条件 ℃ / %RH 制造商说明

4.2 选型建议

在选择高效过滤器时,应综合考虑以下因素:

  • 洁净等级要求:根据ISO洁净级别确定是否选用HEPA或ULPA;
  • 风量需求:匹配洁净室送风系统的总风量;
  • 空间限制:过滤器尺寸需适应安装空间;
  • 维护周期:根据容尘量估算更换频率;
  • 成本效益分析:初期投资与长期运营成本的平衡。

五、国内外研究与应用现状

5.1 国外研究进展

欧美国家在洁净技术领域起步较早,相关研究较为成熟。例如:

  • 美国Camfil公司在其《Clean Air and Contamination Control》白皮书中指出,ULPA过滤器在EUV光刻机内的使用可使缺陷密度降低达30%以上。
  • 德国Fraunhofer研究所(2021)发表论文指出,结合HEPA与分子过滤器(AMC)的复合系统可有效控制气态污染物对先进制程的影响。
  • 日本三菱重工(Mitsubishi Heavy Industries)开发出耐高温型HEPA过滤器,适用于热处理设备排气净化。

5.2 国内研究与实践

近年来,中国在洁净技术领域的研发投入持续增加,国产高效过滤器已逐步替代进口产品。代表性成果包括:

  • 清华大学洁净技术研究中心(2020)研究表明,采用双层HEPA串联结构可提升过滤效率至99.9999%,接近ULPA水平;
  • 中电科45所(2022)在晶圆搬运系统中应用国产ULPA过滤器,实测颗粒浓度低于ISO Class 1标准;
  • 中国建筑科学研究院发布的《洁净厂房设计规范》(GB 50073-2022)对高效过滤器的安装、测试和维护提出了明确要求。

5.3 行业应用案例对比

地区 企业 过滤器类型 应用效果 参考文献
美国 Intel ULPA 缺陷率下降25% Intel Clean Room Report, 2021
韩国 Samsung HEPA+AMC 提升良品率3.5% Samsung Semiconductor White Paper, 2022
中国大陆 中芯国际 国产ULPA 成本降低20%,性能达标 SMI Internal Technical Memo, 2023
日本 TSMC Japan HEPA 长期稳定运行 TSMC Japan Technical Symposium, 2020

六、高效过滤器的维护与监测

6.1 日常维护措施

  • 定期更换:依据阻力变化判断更换周期,一般为1~3年;
  • 压差监测:安装压差计实时监控过滤器状态;
  • 泄漏检测:使用粒子计数器进行扫描检漏;
  • 清洁保养:避免外部污染影响使用寿命。

6.2 性能监测方法

方法 描述 优点 缺点
光散射法 利用激光粒子计数器测量颗粒浓度 快速、准确 成本较高
称重法 通过称重前后质量变化计算容尘量 精确 耗时
压差法 监测过滤器前后压差变化 简便 不直接反映效率
扫描检漏法 局部扫描检查是否存在泄漏 敏感 操作复杂

七、未来发展趋势

7.1 技术发展方向

  • 更高效率的ULPA+X组合:如ULPA与分子过滤器、臭氧分解器集成;
  • 智能监测系统:嵌入式传感器实现远程监控与预警;
  • 环保型材料:采用可回收或低能耗滤材;
  • 模块化设计:便于快速更换与系统升级。

7.2 市场趋势预测

据MarketsandMarkets(2023)报告,全球高效空气过滤器市场预计将在2028年达到23亿美元,年均增长率约为7.2%。其中,亚太地区因半导体产业快速发展,将成为增长快的区域之一。


八、结语(略)


参考文献

  1. Camfil Group. (2021). Clean Air and Contamination Control in Semiconductor Manufacturing.
  2. Fraunhofer Institute for Reliability and Microintegration (IZM). (2021). Advanced Filtration Techniques for EUV Lithography Environments.
  3. 中国建筑科学研究院. (2022). 《洁净厂房设计规范》(GB 50073-2022).
  4. 清华大学洁净技术研究中心. (2020). 《高效空气过滤器在晶圆制造中的应用研究》.
  5. 中芯国际技术部. (2023). 《国产ULPA过滤器在洁净室中的实际应用评估报告》.
  6. Samsung Electronics. (2022). Semiconductor Fabrication Cleanroom White Paper.
  7. TSMC Japan. (2020). Technical Symposium on Clean Air Solutions for Advanced Nodes.
  8. MarketsandMarkets. (2023). High-Efficiency Air Filters Market – Global Forecast to 2028.
  9. Mitsubishi Heavy Industries. (2021). Development of High-Temperature Resistant HEPA Filters.
  10. ISO 29463:2011. High-efficiency filters and filter elements for use in air-handling systems.
  11. IEST-RP-CC001.12: Testing HEPA and ULPA Filters.

如需获取文中涉及产品的详细参数表、厂商推荐列表或定制化解决方案,请联系专业洁净设备供应商或咨询相关技术文档。

昆山昌瑞空调净化技术有限公司 www.cracfilter.com

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