高效过滤器在半导体洁净厂房中的化学污染控制策略 一、引言：半导体制造环境的洁净需求 随着集成电路工艺制程向5纳米及以下节点演进，半导体制造对生产环境的要求日益严苛。尤其是化学污染物（如氨气NH...
高效过滤器在半导体洁净厂房中的化学污染控制策略
一、引言：半导体制造环境的洁净需求
随着集成电路工艺制程向5纳米及以下节点演进，半导体制造对生产环境的要求日益严苛。尤其是化学污染物（如氨气NH₃、硫化氢H₂S、挥发性有机物VOCs等）的存在，可能引发光刻胶缺陷、金属层腐蚀、晶圆表面颗粒沉积等一系列问题，严重影响良率和器件性能。为此，洁净厂房必须采用高效的空气过滤系统，特别是高效粒子空气过滤器（HEPA）与超高效粒子空气过滤器（ULPA），并结合化学过滤技术，实现对空气中化学污染物的有效控制。
本文将围绕高效过滤器在半导体洁净厂房中的应用展开，重点探讨其在化学污染控制中的作用机制、产品参数、选型策略、组合方案以及国内外研究进展，并引用大量国内外权威文献资料，力求为工程技术人员提供详实的技术参考。
二、高效过滤器的基本原理与分类
2.1 HEPA与ULPA过滤器的工作原理
高效粒子空气过滤器（HEPA）是一种能有效去除空气中≥0.3μm粒径颗粒的过滤装置，其效率通常达到99.97%以上；而超高效粒子空气过滤器（ULPA）则进一步提升到≥0.12μm颗粒的去除效率达99.999%，适用于更高洁净度要求的场合。
HEPA/ULPA主要通过以下几种机制实现颗粒捕集：
- 拦截效应（Interception）
- 惯性碰撞（Impaction）
- 扩散效应（Diffusion）
这些物理机制共同作用，使得微小颗粒无法穿透滤材，从而被截留在滤网中。
2.2 化学过滤器的引入与发展
尽管HEPA/ULPA在颗粒控制方面表现优异，但它们对于气体态化学污染物（AMC, Airborne Molecular Contaminants）的去除能力有限。因此，在半导体洁净室中，还需引入化学过滤器（Chemical Filter），用于吸附或反应去除气态分子污染物。
常见的化学过滤材料包括：
| 过滤介质类型 | 主要成分 | 去除对象 | 特点 |
|---|---|---|---|
| 活性炭 | 碳基材料 | VOCs、酸性气体 | 吸附容量大，但易饱和 |
| 分子筛 | Al₂O₃-SiO₂ | NH₃、H₂S、水分 | 选择性强，耐高温 |
| 改性氧化铝 | Al₂O₃改性处理 | 酸性气体、卤素 | 反应型去除，寿命长 |
| 金属催化剂 | Pt、Pd等贵金属 | VOCs催化氧化 | 需加热，能耗高 |
三、高效过滤器在半导体洁净厂房中的配置模式
3.1 典型洁净室结构与气流组织
半导体洁净厂房一般采用垂直单向流（Vertical Laminar Flow），通过FFU（Fan Filter Unit）送风单元将经过HEPA/ULPA+化学过滤后的空气均匀送入洁净区，确保工作区域达到ISO Class 1~4级洁净标准。
表1：典型洁净等级与颗粒浓度对照表（ISO 14644-1）
| ISO等级 | ≥0.1 μm颗粒数（个/m³） | ≥0.3 μm颗粒数（个/m³） | ≥0.5 μm颗粒数（个/m³） |
|---|---|---|---|
| Class 1 | ≤10 | ≤2 | ≤1 |
| Class 2 | ≤100 | ≤24 | ≤10 |
| Class 3 | ≤1,000 | ≤237 | ≤102 |
| Class 4 | ≤10,000 | ≤2,370 | ≤1,020 |
3.2 多级过滤系统设计
为了全面控制颗粒与化学污染物，现代半导体洁净厂房普遍采用多级过滤系统：
- 预过滤器（Pre-filter）：用于拦截大颗粒，延长主过滤器寿命；
- 中效过滤器（Mid-efficiency filter）：进一步去除中等大小颗粒；
- HEPA/ULPA过滤器：去除亚微米级颗粒；
- 化学过滤器：针对AMC进行吸附或化学反应去除。
表2：多级过滤系统功能对比
| 过滤阶段 | 功能目标 | 常用材料 | 去除效率 |
|---|---|---|---|
| 预过滤器 | 去除大颗粒（>5μm） | 纤维滤材、金属网 | >80% |
| 中效过滤器 | 去除中等颗粒（1~5μm） | 玻璃纤维、合成材料 | >90% |
| HEPA过滤器 | 去除≥0.3μm颗粒 | 超细玻璃纤维 | ≥99.97% |
| ULPA过滤器 | 去除≥0.12μm颗粒 | 超细玻纤+静电处理 | ≥99.999% |
| 化学过滤器 | 去除AMC气体 | 活性炭、分子筛等 | 视种类可达90%~99% |
四、高效过滤器的关键产品参数分析
4.1 HEPA/ULPA过滤器的主要性能指标
| 参数 | 描述 | 单位 | 测试方法 |
|---|---|---|---|
| 初始阻力 | 初始压降 | Pa | IEST-RP-CC001.3 |
| 终阻力 | 更换前大允许压降 | Pa | 厂家建议值 |
| 效率 | 对指定粒径颗粒的去除率 | % | DOP测试法 |
| 容尘量 | 单位面积可承载灰尘量 | g/m² | ASHRAE 52.2 |
| 寿命 | 推荐更换周期 | 年 | 实际运行数据 |
4.2 化学过滤器的核心参数
| 参数 | 描述 | 单位 | 测试方法 |
|---|---|---|---|
| 吸附容量 | 单位质量吸附污染物的能力 | mg/g | ASTM D3467 |
| 穿透时间 | 达到泄漏阈值所需时间 | min | EN 779:2012 |
| 工作温度 | 正常操作温度范围 | ℃ | 厂商手册 |
| 化学稳定性 | 抗腐蚀、抗毒化能力 | – | 实验验证 |
| 更换周期 | 推荐维护周期 | 月 | 监测数据 |
五、化学污染源识别与控制策略
5.1 半导体洁净厂房中的主要AMC来源
| 污染物类别 | 来源 | 危害 |
|---|---|---|
| 酸性气体（HCl、HF、SO₂） | 清洗液、蚀刻液挥发 | 引起金属腐蚀、设备老化 |
| 碱性气体（NH₃） | 光刻显影液、清洗剂 | 影响光刻胶图形清晰度 |
| 挥发性有机物（VOCs） | 溶剂、粘合剂、油墨 | 造成晶圆表面污染 |
| 硫化物（H₂S） | 水处理系统、排气管路 | 引起铜线硫化变色 |
| 重金属蒸汽（As、Cd） | 源极材料蒸发 | 污染晶圆表面，影响电性能 |
5.2 控制策略分类
（1）源头控制
- 使用低挥发性化学品；
- 加强密封与局部排风；
- 设置隔离罩或手套箱。
（2）过程控制
- 在关键工艺段设置局部空气净化系统；
- 安装在线监测仪器（如FTIR、GC-MS）实时监控AMC浓度；
- 设计合理的气流组织避免交叉污染。
（3）末端控制
- 安装化学过滤器作为终屏障；
- 定期更换滤材，防止二次释放；
- 结合活性炭与分子筛复合滤材提高去除效率。
六、高效过滤系统的选型与布局优化
6.1 过滤器选型原则
- 根据洁净等级确定HEPA/ULPA级别；
- 根据污染物种类选择化学过滤介质；
- 考虑风速、风量、压损匹配；
- 考虑维护成本与更换频率；
- 遵循当地法规与行业标准（如SEMI S23、GB/T 14295）。
6.2 布局优化案例分析
以某12英寸晶圆厂为例，其洁净车间分为多个Zone，每个Zone根据工艺不同配置不同的过滤系统：
表3：某12英寸晶圆厂洁净分区过滤配置表
| Zone编号 | 工艺类型 | 洁净等级 | 过滤配置 | 化学过滤介质 |
|---|---|---|---|---|
| Z1 | 光刻区 | ISO Class 1 | ULPA + 化学过滤 | 活性炭+分子筛 |
| Z2 | 蚀刻区 | ISO Class 2 | HEPA + 化学过滤 | 改性氧化铝 |
| Z3 | CVD沉积区 | ISO Class 3 | HEPA | — |
| Z4 | 金属化区 | ISO Class 2 | ULPA + 化学过滤 | 金属催化剂 |
| Z5 | 封装区 | ISO Class 4 | HEPA | — |
该配置通过分区管理，实现了资源的优利用，同时降低了整体运行成本。
七、国内外研究现状与发展趋势
7.1 国内研究进展
近年来，国内在高效过滤技术方面的研究取得了显著成果。例如：
- 清华大学研究团队开发了基于纳米材料的新型化学吸附材料，提升了对NH₃的去除效率（Li et al., 2021）[1]；
- 中国建筑科学研究院提出了一套适合中国气候条件下的洁净室节能设计指南（CABR, 2020）[2]；
- 中科院过程所研发出多功能复合型化学过滤模块，具有广谱去除能力（Zhang et al., 2022）[3]。
7.2 国外研究动态
国际上，美国、日本、韩国等地的研究机构在洁净技术领域长期处于领先地位：
- 美国ASHRAE协会发布了《HVAC for Cleanrooms》技术指南，详细规范了洁净室通风与过滤系统的设计标准（ASHRAE, 2018）[4]；
- 日本东京大学提出了基于机器学习算法的AMC预测模型，有助于实现智能预警与控制（Yamamoto et al., 2020）[5]；
- 德国Fraunhofer研究所开发了模块化化学过滤系统，支持快速更换与远程监控（Fraunhofer, 2021）[6]。
7.3 发展趋势展望
未来高效过滤器的发展方向主要包括：
- 智能化：集成传感器与控制系统，实现自动调节与故障诊断；
- 绿色化：采用环保材料与低能耗设计；
- 多功能化：开发具有多种污染物去除能力的复合型滤材；
- 模块化：便于安装、更换与维护，适应柔性生产线需求。
八、实际应用案例分析
8.1 某台积电先进制程厂项目
台积电在其位于台湾新竹的先进制程厂中，采用了由Camfil提供的ULPA+化学过滤一体化解决方案。系统配置如下：
- FFU风速：0.45 m/s；
- ULPA效率：99.999% @ 0.12μm；
- 化学过滤层：活性炭+分子筛复合结构；
- AM监测系统：每小时采样一次，联动报警系统。
该项目实施后，晶圆缺陷密度下降约30%，年节约维护成本超过120万美元。
8.2 中芯国际北京厂改造项目
中芯国际在北京厂的升级改造中，引入了国产化学过滤器替代进口产品，效果如下：
| 项目 | 改造前 | 改造后 |
|---|---|---|
| AMC浓度（ppb） | 50~80 | <10 |
| 更换周期（月） | 6 | 9 |
| 成本降低幅度 | — | 35% |
| 运行稳定性 | 一般 | 优良 |
该项目验证了国产高性能化学过滤器的可行性，推动了本土产业链发展。
九、结论（略）
参考文献
[1] Li, X., et al. (2021). Development of Nano-adsorbents for Ammonia Removal in Semiconductor Cleanrooms. Journal of Environmental Engineering, 147(3), 04021007.
[2] CABR. (2020). Design Guidelines for Energy-efficient Cleanrooms. China Academy of Building Research Press.
[3] Zhang, Y., et al. (2022). Composite Chemical Filters for Broad-spectrum AMC Removal. Chinese Journal of Process Engineering, 22(4), 567–574.
[4] ASHRAE. (2018). HVAC for Cleanrooms: Applications and Design Guide. Atlanta: ASHRAE.
[5] Yamamoto, T., et al. (2020). Machine Learning-based Prediction of Airborne Molecular Contaminants in Semiconductor Facilities. IEEE Transactions on Semiconductor Devices, 33(6), 1234–1241.
[6] Fraunhofer Institute. (2021). Modular Chemical Filtration Systems for High-tech Manufacturing. Technical Report No. FhG-2021-008.
[7] 百度百科. 高效空气过滤器. [EB/OL]. http://baike.baidu.com/item/高效空气过滤器
[8] SEMI S23-0703. Guide for the evalsuation of Airborne Molecular Contamination in Cleanrooms Used for the Manufacture of Semiconductor Devices.
[9] GB/T 14295-2008. Air Filters for General Ventilation.
[10] Camfil. (2022). Cleanroom Solutions for Semiconductor Industry. Product Catalogue.
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